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高方阻电池片的制程调试指导
        来源:        作者:        发表时间:2013-12-23        阅读次数:176次

  1、高方阻的意义

说到高方阻的意义,大家应该都很懂:较低的表面杂质浓度,有效降低了表面的杂质复合中心,提高了表面少子的存活率,同时增加短波的响应,如此有效的增加了Isc和Uoc,达到提高效率的目的;

 

  2、问题

但是与此同时表面薄层电阻明显增加,增大了Rs,降低了FF。要使最终的效率有所提高,就需要Uoc、Isc的提高大于FF的降低。

 

  3、调整步骤

高方阻工艺的调试需要整个制程的相互配合。具体的动作如下:

 

  (1)方阻调试

  均匀性:影响均匀性的因素很多,设备需要注意温度、尾气负压、热排风;工艺需要注意预氧化层厚度、磷源与氧气比例等,这些需要进行DOE实验,均匀性需要极值差小于8

  高方阻的扩散方案:降温是最直接的方式,但是你需要配合diffusion time和drive in time的调整,也需要DOE实验。

以上完成后需要进行原有制程工艺的试生产,需要看到Uoc、Isc明显提升后,才能说明高方阻的扩散工艺已经调试成功。

 

  (2) PECVD调整

  大家可能不明白,高方阻为什么需要PECVD调整?那就仔细往下看

  表面钝化的改善:高方阻的目的就是降低表面复合,提高短波响应,如果表面钝化很糟糕,那Isc的损失会很明显。

反射光谱改善:高方阻是提高短波的响应,那就需要在一定的程度上减少短波的反射,需要PECVD的n和d的调整,也是DOE实验。

 

  (3) 丝网印刷

  前面进行试生产的目的就是需要确认丝网的改善方向。

  如果效率有提高,那只需要调节烧结炉的工艺即可,一般是在原有的工艺基础上降低温度,因为浅结更容易烧穿;当然不排除提高带速增加温度的可能。

  如果效率没有提高,或很少,那就需要变更正电极网版的设计,增加栅线、降低细栅线宽度(细线密栅原则),最好是在不增加遮光面积的前提下进行网版的设计,这是最理想的。而后进行DOE实验和烧结的调试。

最后就是产线的磨合,要一些时间。很多国外的企业一般都已经做到80~90的方阻了,国内一般为50~60,而我们正在冲刺80~85。

来源:solarzoom

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